Le dispositif Agence de l’Innovation de Défense (AID) a mis à jour, en février 2026, les documents nécessaires à la constitution des dossiers de candidature au dispositif RAPID.

Ces nouveaux éléments sont désormais disponibles en ligne et doivent être utilisés pour tout dépôt de projet.

⇒ Accéder aux documents :
https://www.defense.gouv.fr/aid/deposez-votre-projet/rapid-regime-dappui-linnovation-duale

Un dispositif clé pour soutenir l’innovation duale

Le dispositif RAPID vise à accompagner les projets d’innovation à fort contenu technologique, présentant des applications à la fois civiles et militaires. Il s’adresse en priorité aux PME et ETI, seules ou en consortium, souhaitant développer des technologies stratégiques pour la défense.

Ce que cela implique pour votre candidature

Dans le cadre de votre dépôt de projet, il est essentiel de :

• Prendre connaissance des documents récemment mis à jour 
• Utiliser les nouveaux modèles pour constituer votre dossier 
• Veiller à la conformité des éléments demandés 

L’accompagnement d’ASTech Paris Region

En tant que pôle de compétitivité de référence dans les secteurs aéronautique, spatial et défense, ASTech Paris Region accompagne ses membres dans :

• La structuration et la labellisation de projets innovants 
• L’identification des dispositifs de financement adaptés, dont RAPID 
• La mise en relation avec des partenaires stratégiques 

Votre contact ASTech : Marc Rapin, Chargé de Mission Innovation - marc.rapin@pole-astech.org